真空钎焊炉真空钎焊的基本原理

真空钎焊炉真空钎焊的基本原理

真空钎焊炉钎焊时金属表面的氧化膜彫响液态倂料对基体金属的润湿性。真空钎焊炉钎焊过程中，如果不能有效地除去基体金属表面的氧化膜， 就难以形成优质钎焊接头。不同的钎焊方法釆用不同的除氧化膜 和防氧化措施。一般钎焊方法都是以钎剂的化学作用或者以还原 气氛的还原作用来除氧化膜的。

真空钎焊虽然没有钎剂的化学作用和还原性气氛的还原作用，但是，真空钎焊炉真空具有降低钎焊区的氧分压，可以除去焊件表面氧 化膜，保护焊件不被氧化。这样在真空钎焊炉的真空气氛中钎焊就能够获得高 强度、光亮致密的接头。

除金属氧化膜，真空钎焊时去除氧化膜的 机理，着如下几个方面：

氧化膜在高温、高真空中可自行分解，真空钎焊炉真空钎焊时，氧化物的分 解压力大于真空系统中的氧的 分解压力时，零件表面的氧化力。可以看出，只有少数几种 — 金属的氧化物在钎焊条件下可以自行分解。夫多数金属氧化物不 能分解。因此，氧化物自行分解不是真空钎焊时除氧化膜的主要因素。

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