SiC陶瓷反射镜的制备工艺及特点

SiC陶瓷反射镜的制备工艺及特点

SiC反射镜坯体根据其制备工艺的不同可分成很多种。主要的材料类型普通高温烧结炉烧结法SiC(Sintered SiC)、热(等静)压法SiC(HP SiC)、反应烧结法SiC(RB SiC)、化学气相沉积法SiC(CVD SiC)、多孔泡沫法SiC (Porous SiC)陶瓷等。 高温烧结炉为不同工艺方法制备的SiC陶瓷反射镜性能比较。从各 神工艺制备的SiC陶瓷材料都具有反射镜要求的优异力学性能及热物理性能, 但只有CVD工艺制备的SiC材料能够满足光学加工要求，适合用作高性能反射 镜的光学鏡面，但CVD制备工艺周期长，仅适合制备高纯度、薄层制品，因 此在制备厚的高性能SiC陶瓷反射镜时，通常需将反射镜坯体与反射镜光学镜 面釆用不同工艺分别制备,以利用不同制备工艺的优点满足反射镜使用的要求。湖南艾普德高温烧结炉。 陶瓷反射镜一般由坯体及表面光学反射层组成，坯体要求满足反射镜所要求的 力学、热学以及轻觉化结构要求，而光学层材料则要求细晶、致密、可加工到足够 髙的表面光洁度，以及与坯体的物理、化学性能相匹配。除CVD SiC涂层外，由于琪品或多品Si与SiC材料有良好的热匹配性能，同时也能够满足光学抛光精 度的要求,常用来作为SiC反射镜表面的光学反射涂层。

除SiC陶瓷反射镜外,SiC基复合材料同样由于其优异的力学和热学性能成 为反射镜坯体的可选材料,SiC基复合材料一般包括C/SiC复合材料和SiC/SiC 复合材料两种，与SiC/SiC M合材料相比,c/sic复合材料具有更低的膨胀系数 和更高的导热系数，成为Sic基反射镜发展的重要方向。与SiC单相陶瓷反射 镜相比,C/SiC复合材料反射镜具有如下特性：

(1) 低密度，密度为1.7~2.7g・cm-3,并且可调整，能进一步实现轻量化；

(2) 高模量；

(3) 低膨胀系数，在低温下接近零膨胀,且膨胀系数可根据组分比来调节;

(4) 高热导性能； 

(5) 高热稳定性能；

(6) 更易实现轻量化；

(7) 耐环境性(如高低温环境、耐腐蚀、耐辐射等性能)；

(8) 制备工艺相对简单，成本较低。

因此,C/SiC复合材料作为一种新型反射镜材料，有望代替SiC单相陶瓷材料作为轻质反射镜材料。